Архив статей журнала

Параметры и свойства электроизоляционного покрытия окиси алюминия, осажденного на металле форвакуумным источником (2020)
Выпуск: №2 (2020)
Авторы: Юшков Юрий Георгиевич, Бурачевский Юрий Александрович, Золотухин Денис Борисович, Окс Ефим, Тюньков Андрей Владимирович, Юшков Анатолий Юрьевич

Представлены результаты исследований, направленные на решение проблемы создания диэлектрических покрытий на поверхности проводников для придания им электроизоляционных свойств. Для создания покрытий применялось электронно-лучевое испарение керамики с помощью форвакуумного плазменного источника электронов. Измерены относительная диэлектрическая проницаемость, тангенс угла диэлектрических потерь, полное сопротивление осажденного электроизоляционного покрытия.

Сохранить в закладках
Влияние продольного магнитного поля на эмиссионные характеристики форвакуумного плазменного источника электронов на основе разряда с полым катодом (2021)
Выпуск: № 4 (2021)
Авторы: Бакеев Илья Юрьевич, Зенин Алексей Александрович, Климов Александр Сергеевич, Окс Ефим

Изучено влияние продольного магнитного поля на эмиссионные характеристики форвакуумного плазменного источника электронов на основе разряда с полым катодом. Показано, что, начиная с некоторого порогового значения индукции Bс, магнитное поле приводит к уменьшению концентрации плазмы на оси катодной полости.

С уменьшением диаметра катодной полости пороговое значение Bс увеличивается.

С другой стороны, продольное магнитное поле позволяет увеличить диаметр эмиссионного канала, что способствует существенному увеличению тока эмиссии электронов из плазмы. При этом степень увеличения тока эмиссии определяется геометрией катодной полости и давлением рабочего газа.

Сохранить в закладках